Группа исследователей из Киотского медицинского университета стали первооткрывателями нового искусственного химического соединения, которое увеличивает способность кожи человека создавать некий барьер, который препятствует проникновению чужеродных частиц. Ученые возлагают на данное открытие большие надежды, так как оно может способствовать предотвращению вспышек атопии – аллергии, имеющую наследственную предрасположенность.

Данное открытие актуально и для безоперационной подтяжки лица и многих других медицинских процедур и операций.

По сообщениям японских СМИ результаты исследований, которые проводились под началом доцента Киотского медицинского университета дерматологии Кендзи Кабашимы, 17 сентября были опубликованы в американском медицинском журнале «Allergy and Clinical Immunology». Специалисты собираются использовать их для разработки лекарственных препаратов для лечения атопии и аллергических заболеваний кожи.

Вспышки атопии возникают при повреждении кутикулы (верхнего слоя кожи) вследствие чего нарушается ее способность выступать в качестве барьера для таких чужеродных веществ и организмов, как клещи и домашняя пыль, которые впоследствии могут привести к возникновению аллергических реакций и заболеваний.